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從飛利浦實驗室邊陲出發的艾司摩爾,如何成為晶片戰爭裡最不可或缺的「造光者」?《造光者》作者海因克觀察,EUV不只改寫技術版圖,也背負地緣政治棋子的風險,中國技術真落後20年?答案比你想的複雜。
《造光者》作者海因克(Marc Hijink)描繪了艾司摩爾從飛利浦實驗室邊緣的小公司,成長為主宰全球半導體生產命脈的過程。

在全球晶片戰爭的敘事裡,台積電幾乎總是被點名為台灣的「護國神山」。而在地球的另一端,來自荷蘭的艾司摩爾,則是這場角力裡最不可或缺的「造光者」,它生產的極紫外光曝光機(EUV),是目前唯一能把電路「刻」到幾奈米尺度的設備,沒有它,先進製程根本不可能存在。

《天下雜誌》出版《造光者》,作者荷蘭資深記者海因克(Marc Hijink)描繪了艾司摩爾從飛利浦實驗室邊緣的小公司,成長為主宰全球半導體生產命脈的過程。

「其實,艾司摩爾和台積電的精神是很相像的,」海因克觀察。這名艾司摩爾專家,在疫情後已三度來台,相當關心美中晶片角力下的台積與台灣半導體業。

艾司摩爾雖然位於歐洲,但它的命運和台積有著驚人相似:兩者都因技術過於關鍵而成為全球矚目焦點,同時也在美中晶片戰爭白熱化後,背負地緣政治棋子的風險。

海因克解釋,EUV在實驗室存在已久,但要讓它真正能在台積、三星和英特爾的工廠裡創造價值,「那是完全不同的挑戰,這也是我寫這本書,挖掘艾司摩爾如何走到今日地位的原因。」以下為專訪整理:


問:艾司摩爾是唯一能量產EUV曝光機的公司,如今更邁向更先進的High-NA EUV技術。但能負擔的客戶卻變少,這是艾司摩爾的挑戰嗎?

答:我不太同意這個看法。

我認為,艾司摩爾的先進技術之所以重要,是因為它能把競爭對手擋在門外,同時為客戶帶來更多價值。但就算是最先進的晶片,也不是所有層都用EUV或High-NA,很多結構還是依賴DUV(編按:比EUV早一代的微影設備,精度較低,廣泛應用在成熟製程),所以整個堆疊仍需要不同世代的微影技術配合。

上一代DUV依然不可或缺

回顧EUV上市時,艾司摩爾原本以為產業會全面轉向EUV,卻發現DUV的需求並沒有減少,反而持續成長。

AI帶動了對最先進晶片的需求,但電動車、能源網路和通訊設備也需要大量成熟節點晶片,這些還是依賴DUV。這也是為什麼公司不只在推進最尖端的機台,也不斷改進DUV,包括提高產能、對準精度,甚至還為先進封裝開發新的DUV機台。這都顯示DUV在長期內仍然關鍵。

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