張忠謀當年為何找上ASML？專訪《造光者》作者：艾司摩爾和台積電的精神很像
作者／林以璿 | 天下雜誌 | 2025-09-17
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從飛利浦實驗室邊陲出發的艾司摩爾，如何成為晶片戰爭裡最不可或缺的「造光者」？《造光者》作者海因克觀察，EUV不只改寫技術版圖，也背負地緣政治棋子的風險，中國技術真落後20年？答案比你想的複雜。
圖片來源：謝寬攝
我不是政治人物，政府有什麼決策，我也是看新聞得知。不過，這些決策是從政治角度出發，目前仍在快速變動，很難從產業角度下結論。即便政治領袖今天握了手，明天情勢可能又不同。
問：最近高盛一份報告指出，中國微影技術還停留在65奈米世代，落後歐美至少20年。你怎麼看？
答：EUV的出口限制確實發揮了作用，中國和歐美領先業者相比落後兩到三個世代。但限制同時也刺激了創新，推動產業前進。中國在工程和軟體上有人才，他們會不斷尋找替代路徑。
中國追趕技術，將是由下往上
不過，我不認為EUV會是中國追趕先進技術的唯一關鍵。
曝光機是晶圓廠最昂貴、最難打造和維護的設備，但中國在其他裝備上表現不錯，如中微、北方華創已在國際市場站穩腳步。問題是，要把微影做到艾司摩爾的水準，無論EUV或先進DUV，都極其困難。實驗室能做出樣品是一回事，能在晶圓廠長期穩定量產又是另一回事。
因此，中國的競爭不會從最高端開始，而是從成熟節點一步步往上。半導體產業的本質是學習曲線與反覆迭代，唯一的路就是累積經驗，再與客戶共同提升。艾司摩爾當年也是靠這種方式建立市佔，憑藉開放心態和與客戶共創。
不過，這一切都發生得太快了。
自從2023年第一版書出版後，我再版都得更新，到現在已經修訂了快十次。我相信這本書還會繼續更新，因為艾司摩爾的故事遠沒有結束。
（本文授權轉載自《天下雜誌》未經同意請勿轉載。）
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